２０２６年度第３回 フォトニックデバイス・応用技術研究会

テーマ『シリコンフォトニクス・異種材料集積技術』
・13:05 ～「シリコンフォトニクスファウンドリーの現状と展望」
　　　　　　　　　　 タワー パートナーズ セミコンダクター　三橋 理一郎
・14:05 ～「400G/laneに向けたSiプラットフォーム上メンブレンInP系EA-DFBレーザ」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　NTT　相原 卓磨
・15:05 ～「CPO用高密度ポリマー光導波路付きガラス基板」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　大日本印刷　北乾 巧也
・16:00 ～　ポスターセッション・名刺交換会（懇親会(無料)を同時開催します）